物理治疗师眼中的脑卒中CT、MRI阅片
系列之二
不同部位脑损伤后症状和定位诊断。
脑组织断层解剖的基础知识。
脑出血和脑梗死在CT和MRI影响检查中的具体表现。
脑组织断层解剖的基础知识。
脑卒中CT、MRI检查中最常见到的是颅脑轴位横断层扫描，下面就颅脑轴位横断层解剖介绍如下：
颅脑横断层扫描常用的基线
上眶耳线：眶上缘到外耳道中点的连线。
下眶耳线：眶下缘到外耳道中点的连线，又称Reid基线，头部连续横断层标本多以Reid基线为准。
眦耳线：外眦到外耳道中点的连线，颅脑扫描多以眦耳线为准。
连合间线：前连和后缘中点至后连合前缘中点的连线。脑立体定位手术，γ刀、X刀治疗和研究多以此线为准。
颅脑横断标本的制作方法
横断标本通常沿Reid基线切制，层厚8-10mm。因为颅脑轴位扫描观察断层图像的下表面，颅脑横断标本亦观察其下表面，而且正因为此，临床CT、MRI图像显示的左右大脑半球刚好与真实相反。最后，虽然颅脑横断层扫描的基线和颅脑横断层标本的基线并不相符，但只要抓住每个横断层面的解剖特点，学习颅脑横断层解剖还是能够很好的帮助读懂CT、MRI检查结果的。
由上到下不同层面的颅脑横断标本解剖详述。
经大脑镰上缘的横断层
此层标本主要辨识的结构为中央沟，中央沟前面为中央前回，后面为中央后回。中央后回后面为顶上小叶。另外，在大脑半球内测，包绕着中央沟的为中央旁小叶，中央旁小叶后面的沟为扣带沟缘支。
经中央旁小叶上份的横断层
中央沟：由外向内最深的一条沟，内测有中央旁小叶包绕，大脑内侧面、中央旁小叶后部较长的脑沟为扣带沟缘支。另外，中央前回较中央后回更加肥厚，这也是识别中央沟的又一佐证。
中央沟前面为中央前回，后面为中央后回；中央前回前面为额上回，额上回和中央前回之间为中央前沟；
顶内沟：中央后回后面的脑组织中出现一条呈前后走行的脑沟，此为顶内沟。顶内沟区分了内侧的顶上小叶和外侧的顶下小叶。
楔前叶：位于中央旁小叶后部的扣带回边缘支后面，功能上与许多高水平的认知功能有关，如情景记忆、自我相关的信息处理等。
经中央旁小叶下份的横断层
中央沟：此断层中央沟的特征依然与上一层面相同，可以通过中央旁小叶、扣带沟缘支等轻松地辨认出来。并由此找出中央前回、中央后回、中央旁小叶、楔前叶等脑回结构。
顶内沟：此断面内的顶内沟更加明显，位于中央后回后部脑组织中呈前后走行的一条深沟，并由此区分顶上小叶和顶下小叶。
额上沟：位于中央前回前部脑组织中一条呈前后走行的脑沟，额上沟内侧为额上回，外侧为额中回。
顶枕沟：顶枕沟首次出现，位于断层后部呈左、右走行的一条深沟，沟前面为楔前叶，后面为属于枕叶的楔叶。
经顶枕沟上份的横断层（经顶内沟中份横断层）
此横断面的中央前沟、额上沟和顶内沟的特征与中央旁小叶下份横断面的特征相似，因此，不难区分额上回、额下回、中央前回、中央后回、顶上小叶和顶下小叶。因为层面不断下移，旁中央小叶消失，相同位置被扣带回所取代。
顶枕沟：横向走行的顶枕沟较上一层面前移，变得越发明显，顶枕沟后部脑回组织为楔叶。
经半卵圆中心的横断层
此横断面上，皮质下髓质在两侧大脑半球内部形成卵圆形的区域，因此影像学上称之为半卵圆中心层面。
此层面中央后部横行的脑沟为顶枕沟，顶枕沟后部为楔叶。中央其它部分主要为扣带回。
顶内沟消失。
半球外侧面由前到后依次为额上叶、额中叶、额下叶、中央前回、中央后回、缘上回和角回。
经胼胝体干的横断层
胼胝体干：连接两侧大脑半球的胼胝体纤维呈X形清晰的显示在断层中央。胼胝体前后被扣带回所包绕。
侧脑室：侧脑室首次出现。
大脑外侧裂：首次出现。围绕外侧裂的脑回为缘上回，缘上回后部为角回。相对于大脑外侧裂，中央沟变的细小。
距状沟：相同位置的顶枕沟消失，被前、后距状沟所取代，前后距状沟之间为舌回。舌回后部为楔叶下部。（由于距状沟呈由上到下的弧形，所以同一横断面上出现两次，分别为前距状沟和后距状沟。后距状沟后面的脑回为楔叶）
半球前外侧面由前向后依次排列着额上回、额中回、额下回、中央前回和中央后回。
经胼胝体压部的横断层
此断层标本中最重要的结构为基底节以及之间形成的内囊：内囊前肢位于尾状核头和豆状核之间。内囊后肢位于豆状核和丘脑之间，前肢和后肢的连接部为内囊膝部。
岛叶：位于大脑外侧裂底部，豆状核外侧。
颞横回：大脑外侧裂中间下部的皮质层，大脑的听觉中枢。
距状沟：向内侧凹陷形成禽距。
半球前外侧面由前向后依次排列有额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、颞上回、颞中回和颞下回。
经上丘平面的横断层
小脑和海马首次出现。
基底节和内囊与上一层面略有不同：尾状核和豆状核更加明显，丘脑部分稍显模糊。
屏状核：豆状核和岛叶之间出现一条型屏状核，豆状核和屏状核之间为外囊，岛叶和屏状核之间为最外囊。
中央前、后回：此平面已切至中央沟下部末端，因此中央前回和中央后回显得异常细小，位于岛叶外侧。
半球前外侧面由前向后依次排列有额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、颞上回、颞中回和颞下回。
经下丘平面的横断面
基底节和内囊：基底节彼此更加靠近，内囊只剩下前肢部分，显得细小、模糊。
小脑：小脑组织占据更大的部分。
黒质和红核：黑质对称分布于中脑下丘平面外侧部，黒质内下部为红核。
中央前回、中央后回、枕叶：此平面已切至额叶核颞叶下部，因此，不再显示中央前、后回核枕叶。
前部的额叶部分依次为额上回、额中回和额下回。
外侧部的颞叶部分依次为颞上回、颞中回和颞下回。
经小脑上脚的横断层
前部的额叶部分依次为额上回、额中回和额下回。
外侧部的颞叶部分依次为颞上回、颞中回和颞下回。
中脑后部出现第四脑室。
小脑和中脑之间的白质连接为小脑上脚。
小脑内部髓质内的灰色核团为齿状核。
经小脑中脚的横断层
额叶和颞叶部分均为其底面。
粗大的小脑中脚连接脑桥和小脑。
脑桥和小脑之间为第四脑室。
经垂体横断面
额叶部分有内侧的直回和外侧的眶回内侧部组成。
颞叶为颞叶下部。
后部为脑桥和小脑。
颈动脉管横断面
主要有颅外侧窝内的颞叶下部和颅后窝内的延髓和小脑下部构成。
作者简介：王旭豪，主管治疗师，物理治疗硕士，医院物理治疗科，香港理工大学优秀奖学金获得者。
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